Intel, Samsung und TSMC sind übereingekommen, gemeinsam den Wechsel hin zu größeren 450 mm Wafern einzuleiten. Die Zusammenarbeit beginnt 2012 und soll die Voraussetzung für ein kontinuierliches Wachstum der Halbleiterindustrie sorgen. Zugleich wird dadurch eine überschaubare Kostenstruktur für die Herstellung integrierter Schaltkreise auch künftig sichergestellt.
Intel, Samsung und TSMC sind überzeugt, dass die komplette Halbleiterindustrie davon profitiert, wenn man sich auf die Einhaltung allgemein geltender Standards sowie einen gemeinsamen Zeitplan verständigt. Erreicht wird laut Intel damit ein optimierter "Return on Investment", ein reduzierter Aufwand für Forschung und Entwicklung im Bereich 450 mm und eine Rationalisierung des Wechsels von der 300 mm Infrastruktur. Von der Kooperation versprechen sich die drei Unternehmen zudem, Risiken und Übergangskosten zu minimieren. Die Zusammenarbeit mit International Sematech (ISMI) wird dabei fortgesetzt. Diese spielt eine zentrale Rolle bei der Koordination innerhalb der Industrie, 450 mm Wafer auszuliefern, Standards zu setzen und Equipment für den Aufbau von Testumfeldern bereitzustellen.
Rückblickend lässt sich feststellen, dass die Herstellung mit größeren Wafern in der Vergangenheit stets dazu beigetragen hat, Halbleiter etwas günstiger zu produzieren. Die gesamte Silizium Oberfläche eines 450 mm Wafers und die Anzahl der gestanzten Dies (beispielsweise einzelne Computerchips) sind mehr als doppelt so hoch wie bei einem 300 mm Wafer. Somit lassen sich mit einem größeren Wafer die Produktionskosten pro Chip senken. Darüber hinaus reduziert sich der Ressourcenverbrauch pro Chip. Der Übergang von 200 mm auf 300 mm Wafer etwa verringerte die gesamten Emissionen, die pro Chip bei der Herstellung entstehen. Das Ergebnis ist eine geringere Luftverschmutzung, weniger austretende Gase, die zur globalen Erwärmung führen, und ein gesunkener Wasserverbrauch. Einen ähnlichen Effekt verspricht der Wechsel hin zu 450 mm Wafern.
Bislang fand die Migration auf die nächst größeren Wafer stets im 10-Jahres-Rhythmus statt. So begann der Übergang zu 300 mm Wafern im Jahr 2001, die 200 mm Wafer wurden 1991 eingeführt. Vor diesem Hintergrund haben sich Intel, Samsung und TSMC auf den Wechsel zu 450 mm Wafern für 2012 verständigt.
Intel, Samsung und TSMC sind überzeugt, dass die komplette Halbleiterindustrie davon profitiert, wenn man sich auf die Einhaltung allgemein geltender Standards sowie einen gemeinsamen Zeitplan verständigt. Erreicht wird laut Intel damit ein optimierter "Return on Investment", ein reduzierter Aufwand für Forschung und Entwicklung im Bereich 450 mm und eine Rationalisierung des Wechsels von der 300 mm Infrastruktur. Von der Kooperation versprechen sich die drei Unternehmen zudem, Risiken und Übergangskosten zu minimieren. Die Zusammenarbeit mit International Sematech (ISMI) wird dabei fortgesetzt. Diese spielt eine zentrale Rolle bei der Koordination innerhalb der Industrie, 450 mm Wafer auszuliefern, Standards zu setzen und Equipment für den Aufbau von Testumfeldern bereitzustellen.
Rückblickend lässt sich feststellen, dass die Herstellung mit größeren Wafern in der Vergangenheit stets dazu beigetragen hat, Halbleiter etwas günstiger zu produzieren. Die gesamte Silizium Oberfläche eines 450 mm Wafers und die Anzahl der gestanzten Dies (beispielsweise einzelne Computerchips) sind mehr als doppelt so hoch wie bei einem 300 mm Wafer. Somit lassen sich mit einem größeren Wafer die Produktionskosten pro Chip senken. Darüber hinaus reduziert sich der Ressourcenverbrauch pro Chip. Der Übergang von 200 mm auf 300 mm Wafer etwa verringerte die gesamten Emissionen, die pro Chip bei der Herstellung entstehen. Das Ergebnis ist eine geringere Luftverschmutzung, weniger austretende Gase, die zur globalen Erwärmung führen, und ein gesunkener Wasserverbrauch. Einen ähnlichen Effekt verspricht der Wechsel hin zu 450 mm Wafern.
Bislang fand die Migration auf die nächst größeren Wafer stets im 10-Jahres-Rhythmus statt. So begann der Übergang zu 300 mm Wafern im Jahr 2001, die 200 mm Wafer wurden 1991 eingeführt. Vor diesem Hintergrund haben sich Intel, Samsung und TSMC auf den Wechsel zu 450 mm Wafern für 2012 verständigt.
